在掃描電鏡（SEM）里，樣品容易充電是因?yàn)殡娮邮Z擊后，樣品表面的電子無(wú)法及時(shí)泄放，累積成電荷，導(dǎo)致圖像發(fā)亮、漂移、甚至嚴(yán)重失真。解決思路主要是 減少電子積累 或 提供導(dǎo)電通道。

解決辦法

導(dǎo)電涂層處理

在非導(dǎo)電或弱導(dǎo)電樣品表面，噴鍍一層 金、鉑、碳 等導(dǎo)電膜。

厚度要均勻，過(guò)薄可能不能有效泄放電荷，過(guò)厚會(huì)掩蓋表面細(xì)節(jié)。

低真空/環(huán)境電鏡模式（ESEM）

使用低真空或環(huán)境模式，引入少量氣體分子（如水蒸氣），通過(guò)電離作用中和積累的電荷。

適合不便鍍膜的樣品。

降低電子束強(qiáng)度

降低 加速電壓（比如從 20 kV 降到 1–5 kV），減少入射電子量。

減小 束流，降低電荷累積速率。

增加導(dǎo)電路徑

用導(dǎo)電膠或碳膠帶把樣品邊緣與樣品臺(tái)金屬底座連接。

保證樣品與樣品夾、樣品桿良好接觸。

優(yōu)化觀測(cè)方式

使用 背散射電子（BSE）模式，對(duì)充電更不敏感。

縮小觀察范圍，減少電子束在表面掃描面積。