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    無掩膜光刻機

    無掩膜光刻機 澤攸科技無掩模光刻機是一種先進的光刻技術設備,它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

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      澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備,它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

      技術特點

      ▲ 納米壓電位移臺拼接技術

      ▲ 紅光引導曝光,所見即所得

      ▲ OPC修正算法優化圖形質量

      ▲ CCD相機逐場自動聚焦

      ▲ 灰度勻光技術

      光路遠離結構圖

      光路遠離結構圖

      主要指標

      技術參數.png

      應用案例

      應用案例

      應用案例

      應用案例

      kefu-weixin.png

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