提高掃描電鏡（SEM）圖像對比度，可以從 電子束條件、樣品處理、探測方式和成像參數 四個方向入手：

1. 電子束條件優(yōu)化

加速電壓調整：較低電壓時，二次電子信號占優(yōu)勢，表面形貌對比增強；較高電壓則更容易看清內部結構。

束流控制：合適的束流強度能提升信號量，從而增強明暗差別，但過強會導致充電或損傷。

2. 樣品處理

導電鍍膜：對絕緣樣品進行金、鉑或碳鍍膜，可減少充電并增強邊緣清晰度。

表面清潔：去除油脂和污染物，避免背景信號干擾對比度。

選擇性腐蝕或斷面制備：在材料科學中，適當的制備能突出不同相的差異。

3. 探測器與信號選擇

二次電子（SE）信號：適合觀察表面形貌，邊緣對比強烈。

背散射電子（BSE）信號：對原子序數差異敏感，能增強成分對比。

混合模式：同時采集 SE 和 BSE 信號，根據需要調整權重，獲得高質量的對比度。

4. 成像與后處理參數

工作距離：較短的工作距離可提升分辨率，改善對比。

掃描速度：降低掃描速度或使用幀累積，能減少噪聲，提高對比度。

亮度與對比度設置：在圖像采集軟件中實時調整，避免過曝或過暗。

后處理：適度的直方圖均衡或伽瑪調整，可進一步優(yōu)化對比度，但應避免過度處理以免失真。