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掃描電鏡（SEM）和透射電鏡（TEM）是兩種常用的電子顯微鏡，它們?cè)谠怼⒊上穹绞健悠芬蠛蛻?yīng)用等方面都有很大的不同。以下是它們的主要區(qū)別：

1. 成像原理

掃描電鏡（SEM）：

工作原理：掃描電鏡通過(guò)聚焦電子束掃描樣品表面，并收集反射或散射的二次電子、背散射電子等信號(hào)，從而構(gòu)建樣品表面的圖像。

成像方式：圖像是基于電子束與樣品表面的相互作用來(lái)產(chǎn)生的，顯示的是樣品的表面形貌和表面結(jié)構(gòu)。

透射電鏡（TEM）：

工作原理：透射電鏡通過(guò)將電子束透過(guò)薄樣品，然后通過(guò)樣品后的透射電子進(jìn)行成像。透射電子與樣品內(nèi)部的原子結(jié)構(gòu)發(fā)生相互作用，從而產(chǎn)生圖像。

成像方式：圖像顯示的是樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，包括晶體結(jié)構(gòu)、原子級(jí)別的細(xì)節(jié)等。

2. 樣品要求

掃描電鏡（SEM）：

樣品可以是比較大的固體，甚至是較為粗糙的樣品。

樣品表面需要導(dǎo)電，非導(dǎo)電樣品通常需要鍍上一層薄的金屬涂層（如金或碳），以避免電子束引發(fā)靜電積聚。

樣品厚度不需要特別薄，幾毫米甚至幾厘米厚的樣品也能進(jìn)行觀察。

透射電鏡（TEM）：

樣品須是非常薄的，通常需要小于100nm（納米）的厚度，因?yàn)殡娮邮枰高^(guò)樣品。

樣品需要非常高的純凈度，并且處理起來(lái)較為復(fù)雜。

樣品需要能夠承受高能電子束的輻照，避免樣品損壞。

3. 分辨率

掃描電鏡（SEM）：

分辨率較低，一般在 1-10 納米之間。

適用于觀察樣品的宏觀表面形貌，不能觀察到非常精細(xì)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

透射電鏡（TEM）：

分辨率非常高，通常在 0.1-0.2 納米級(jí)別，可以觀察到原子級(jí)別的細(xì)節(jié)。

適合于研究樣品的微觀結(jié)構(gòu)，能夠看到單個(gè)原子和晶格排列。

4. 圖像類型

掃描電鏡（SEM）：

主要提供三維的表面圖像，圖像通常是立體的，能夠清晰地顯示樣品的表面形貌、粗糙度、結(jié)構(gòu)等信息。

適合觀察大尺度的結(jié)構(gòu)和表面特征，如微小顆粒、裂紋、孔洞等。

透射電鏡（TEM）：

提供二維圖像，通常是樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

能夠顯示原子級(jí)的細(xì)節(jié)，適合觀察材料的微觀結(jié)構(gòu)、晶體缺陷、納米結(jié)構(gòu)等。

5. 樣品準(zhǔn)備

掃描電鏡（SEM）：

樣品準(zhǔn)備相對(duì)簡(jiǎn)單，通常只需清潔表面，可能需要對(duì)非導(dǎo)電樣品進(jìn)行金屬涂層。

對(duì)樣品的要求較低，可以直接觀察大多數(shù)樣品，且樣品不需要特別薄。

透射電鏡（TEM）：

樣品準(zhǔn)備非常復(fù)雜，通常需要通過(guò)超薄切片（如超薄刀切或離子切割）來(lái)制備非常薄的樣品。

樣品須薄到足以讓電子透過(guò)，且須非常均勻。

6. 應(yīng)用領(lǐng)域

掃描電鏡（SEM）：

適用于觀察材料表面、顆粒形態(tài)、破裂或磨損的表面結(jié)構(gòu)、電子器件的表面分析等。

常用于材料科學(xué)、電子學(xué)、生物學(xué)、地質(zhì)學(xué)等領(lǐng)域。

在半導(dǎo)體、金屬材料、薄膜分析、納米技術(shù)等方面有廣泛應(yīng)用。

透射電鏡（TEM）：

主要用于觀察樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，能夠研究晶體結(jié)構(gòu)、相變、缺陷、納米粒子等。

適用于高分辨率結(jié)構(gòu)分析，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)、結(jié)構(gòu)生物學(xué)等領(lǐng)域。

7. 圖像獲取速度

掃描電鏡（SEM）：

圖像獲取速度較快，因?yàn)樗饕蕾囉陔娮邮跇悠繁砻娴膾呙琛?/span>

透射電鏡（TEM）：

圖像獲取速度較慢，因?yàn)殡娮邮枰┩笜悠罚覙悠讽毞浅１　?/span>

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡與透射電鏡有何區(qū)別。更多掃描電鏡產(chǎn)品及價(jià)格請(qǐng)咨詢