在掃描電子顯微鏡（SEM）中，為樣品施加導(dǎo)電涂層是一種常見的技術(shù)，特別是針對(duì)絕緣性樣品或非導(dǎo)電樣品，以增強(qiáng)電子束的導(dǎo)電性，減少充電效應(yīng)，從而獲得更好的圖像質(zhì)量。以下是一些常見的導(dǎo)電涂層技術(shù)：

金屬噴涂：這是常見的導(dǎo)電涂層技術(shù)之一。它涉及使用金屬（通常是金或鉑）的蒸發(fā)器或?yàn)R射器在樣品表面產(chǎn)生薄層金屬涂層。這種方法提供了很好的導(dǎo)電性，并適用于多種樣品類型。

碳噴涂：碳噴涂是涂覆樣品表面薄層碳的方法。這種方法適用于不希望在圖像中引入金屬元素的樣品。碳噴涂不僅提供導(dǎo)電性，還可以減少充電效應(yīng)。

聚合物導(dǎo)電涂層：某些聚合物涂層具有導(dǎo)電性能，可用于覆蓋樣品。這些導(dǎo)電聚合物通常是導(dǎo)電聚合物混合物，可通過(guò)噴涂或涂覆應(yīng)用到樣品表面。

金屬蒸發(fā)：使用金屬蒸發(fā)器將金屬蒸發(fā)到樣品表面以創(chuàng)建導(dǎo)電涂層。這種方法通常用于小面積的樣品。

磁控濺射：磁控濺射是一種將金屬附著到樣品表面的方法，通常在真空條件下進(jìn)行。這種方法提供了均勻的導(dǎo)電涂層。

選擇適當(dāng)?shù)膶?dǎo)電涂層技術(shù)通常取決于樣品類型、目標(biāo)以及可用的設(shè)備和資源。導(dǎo)電涂層有助于提高SEM圖像質(zhì)量，減少充電效應(yīng)，并使非導(dǎo)電樣品適用于電子束顯微鏡分析。

ZEM18臺(tái)式掃描電鏡

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