掃描電子顯微鏡（SEM）是一種常用的工具，用于對納米結構進行成像和表征。以下是一些常見的掃描電鏡成像和表征技術：

二次電子成像（SEI）：利用掃描電子束與樣品表面的相互作用，測量和檢測來自樣品表面的二次電子信號。SEI提供了樣品表面形貌和形態(tài)的信息。

反射電子成像（BEI）：利用掃描電子束與樣品中的晶體結構相互作用，測量和檢測來自樣品表面的反射電子信號。BEI可以提供關于樣品的晶體結構、晶體取向以及表面缺陷等信息。

能譜成像（EDX）：通過能譜分析來獲得樣品中元素的分布情況。在掃描電子顯微鏡中，使用能量色散X射線譜儀（Energy-Dispersive X-ray Spectroscopy，EDS）來測量來自樣品表面的X射線信號，從而確定元素的存在和分布。

電子背散射衍射（EBSD）：利用掃描電子顯微鏡中的衍射儀，測量和分析來自樣品的背散射電子，以確定樣品的晶體結構、晶體取向和晶界分布等信息。

離子束刻蝕（FIB）：離子束刻蝕是一種結合離子束轟擊和掃描電子顯微鏡成像的技術。它可以用于樣品的準確切割、制備交叉截面，以及納米尺度的加工和修改。

環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM）：ESEM是一種能夠在相對高濕度和大氣環(huán)境下進行成像的掃描電子顯微鏡。它可以用于納米結構在真實環(huán)境中的表征。

這些技術可以提供有關納米結構形貌、元素分布、晶體結構和晶界信息等方面的詳細表征。根據(jù)研究需求，可以選擇適合的技術來獲取所需的信息。同時，結合其他技術，如原子力顯微鏡（Atomic Force Microscopy，AFM）和透射電子顯微鏡（Transmission Electron Microscopy，TEM），可以獲得納米結構成像和表征。

ZEM15臺式掃描電鏡能譜一體機

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡對納米結構的成像和表征技術。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢